晶圓減薄機(jī)是一種用于減薄硅片（晶圓）厚度的設(shè)備，通常用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。

由于半導(dǎo)體芯片的制造工藝的要求，對(duì)晶片的尺寸精度、幾何精度、表面潔凈度以及表面微晶格結(jié)構(gòu)提出很高要求。因此在幾百道工藝流程中只能采用一定厚度的晶片在工藝過程中傳遞、流片。

由于減薄機(jī)對(duì)轉(zhuǎn)臺(tái)精度、速度穩(wěn)定性、端徑跳都提出了極高要求，因此，德瑪特氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)airUPRT成為上佳之選。airUPRT轉(zhuǎn)臺(tái)重復(fù)精度為±1μm，端跳低至70納米，徑跳達(dá)到100納米，且具有超低速度波動(dòng)性。


此外，德瑪特還提供全套的減薄機(jī)系統(tǒng)解決方案，包含驅(qū)動(dòng)器和軟件系統(tǒng)。

減薄機(jī)工作原理如下：

 1. 晶圓夾持：首先，將要減薄的晶圓放置在晶圓減薄機(jī)的夾持裝置中，通過機(jī)械夾持或真空吸附等方式固定好晶圓位置，確保其穩(wěn)定性。

 2. 粗磨裝置：晶圓減薄機(jī)內(nèi)部配備有粗磨裝置，通過高速旋轉(zhuǎn)的磨輪對(duì)晶圓進(jìn)行粗磨，將晶圓的厚度逐漸減小。

 3. 磨屑移除：在粗磨過程中產(chǎn)生的磨屑會(huì)影響磨削效果，因此晶圓減薄機(jī)還會(huì)配備磨屑移除裝置，用于清除磨屑，保持磨削表面的平整度。

 4. 精密磨削：經(jīng)過粗磨和磨屑移除之后，緊接著進(jìn)行精密磨削，通過更細(xì)致的磨削過程進(jìn)一步減小晶圓的厚度，保證其表面光滑度和平整度。

 5. 檢測(cè)和控制：晶圓減薄機(jī)通常配備有檢測(cè)和控制系統(tǒng)，用于監(jiān)測(cè)晶圓的厚度和磨削過程的參數(shù)，確保減薄效果符合要求。 通過以上步驟，晶圓減薄機(jī)可以有效地將晶圓的厚度減小到需要的尺寸，滿足半導(dǎo)體制造過程中對(duì)晶圓厚度的要求。